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Technologies of CIT


CIT만의 독보적인 기술들을 소개합니다.

Atomic Sputtering Epitaxy (ASE)


ASE 증착 기술은 RF 스퍼터링 방식을 기반으로 원자를 한 층씩 정밀하게 쌓아가는 기술입니다.

외부 전기적 및 기계적 진동을 차단하고, 내부에서는 단결정 타겟을 사용하여 기판에 원자가 한 층씩

정확하게 쌓이도록 합니다.


이 기술을 통해 PTFE, 사파이어, 유리 등 다양한 기판에서도 고품질의 구리 박막을 생산할 수 있습니다.


Application

반도체, 통신용 회로 등

ASE 증착 기술

ASE 증착 기술은 RF 스퍼터링 방식을 기반으로 원자를 한 층씩 정밀하게 쌓아가는 기술입니다.


외부 전기적 및 기계적 진동을 차단하고, 내부에서는 단결정 타겟을 사용하여 기판에 원자가 한 층씩 정확하게 쌓이도록 합니다.


이 기술을 통해 PTFE, 사파이어, 유리 등 다양한 기판에서도 고품질의 구리 박막을 생산할 수 있습니다.


Application

  • 반도체, 통신용 회로 등

Technical paper

Self-Oxidation Resistance of the Curved Surface of Achromatic Copper (Adv. Mater.2023, 2210564)


Copper surfaces that exhibit a wide range of achromatic colors while still metallic have not been studied, despite advancements in antireflection coatings. A series of achromatic copper films grown with [111] preferred orientation by depositing 3D porous nanostructures is introduced via coherent/incoherent atomic sputtering epitaxy. The porous copper nanostructures self-regulate the giant oxidation resistance by constructing a curved surface that generates a series of monoatomic steps, followed by shrinkage of the lattice spacing of one or two surface layers. First-principles calculations confirm that these structural components cooperatively increase the energy barrier against oxygen penetration. The achromaticity of the single-crystalline porous copper films is systematically tuned by geometrical parameters such as pore size distribution and 3D linkage. The optimized achromatic copper films with high oxidation resistance show an unusual switching effect between superhydrophilicity and superhydrophobicity. The tailored 3D porous nanostructures can be a candidate material for numerous applications, such as antireflection coatings, microfluidic devices, droplet tweezers, and reversible wettability switches